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薄膜材料的XRD测试对薄膜厚度有什么要求

发布时间:2017-04-26 点击量:

我是一般在单晶硅片上外延的,对于单晶衍射仪来说,50nm以上的峰都比较好,~20nm的,有峰,但是会展宽,小于20nm就很难测得出来了。对于粉末多晶衍射仪应该也是差不多。你是在玻璃基底上长的,要是是单晶的话,应该是一样的道理

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: Originally posted by 月下冰魂 at 2013-01-07 23:34:07
我是一般在单晶硅片上外延的,对于单晶衍射仪来说,50nm以上的峰都比较好,~20nm的,有峰,但是会展宽,小于20nm就很难测得出来了。对于粉末多晶衍射仪应该也是差不多。你是在玻璃基底上长的,要是是单晶的话,应该 ...

谢谢!:hand:

一层膜厚由自己的旋涂工艺决定,要么多长几层,要么采用高分辨率,扫慢一点

最好厚一些,否则可能淹没在基底的背景中

当然跟厚度有关系了,intensity跟厚度的关系很大,厚度小了,intensity小的话不能分辨出样品。

普通玻璃应该看不到峰吧?我觉得旋涂的薄膜厚度一般都能满足要求吧,主要是要确定测试设备对样品大小的要求。

XRD衍射峰强原理上和薄膜厚度没关系的,只和积分强度有关,一般情况下薄膜只要结晶很好都能测出XRD峰,峰强和扫描速率,步长有关。薄膜薄建议使用掠入角扫描,这样能降低活消除衬底峰干扰。100nm以上厚度可以用小角扫描,300nm以上厚度正常扫描就可以。


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